Fotolitografia využíva tri základné procesné kroky na prenos vzoru z masky na oblátku: natrieť, vyvolať, exponovať. Vzor sa prenesie do povrchovej vrstvy oblátky počas nasledujúceho procesu. V niektorých prípadoch možno vzor rezistu použiť aj na definovanie vzoru pre nanesený tenký film.
Čo je fotolitografia Ako to funguje?
Fotolitografia je proces vytvárania vzorov, pri ktorom je fotosenzitívny polymér selektívne vystavený svetlu cez masku, pričom v polyméri zanecháva latentný obraz, ktorý možno potom selektívne rozpustiť, aby sa vytvoril vzor prístup k podkladovému substrátu.
Prečo sa používa fotolitografia?
Fotolitografia je jednou z najdôležitejších a najjednoduchších metód mikrovýroby a používa sa na vytváranie detailných vzorov v materiáli. Pri tejto metóde môže byť tvar alebo vzor vyleptaný prostredníctvom selektívneho vystavenia polyméru citlivého na svetlo ultrafialovému svetlu.
Prečo sa UV svetlo používa vo fotolitografii?
Fotolitografia umožňuje 3D enkapsuláciu buniek v hydrogéloch zosieťovaním predpolyméru obsahujúceho bunky pod UV svetlom. Na získanie požadovaného vzoru sa používa fotomaska [88].
Aké sú požiadavky na fotolitografiu?
Vo všeobecnosti proces fotolitografie vyžaduje tri základné materiály, svetelný zdroj, fotografickú masku a fotorezist. Fotorezist, fotosenzitívny materiál,má dva typy, pozitívny a negatívny. Pozitívny fotorezist sa stáva rozpustnejším po vystavení svetelnému zdroju.
Photolithography: Step by step
